(株)21世紀はMLCCおよび半導体分野で使用される様々な超精密Vacuum Plateを生産しています。
産業用Vacuum Plateは吸入ホールが大きいため、対象物にダメージを与えることができ、微細なホールで構成された精密Vacuum Plateの所要がますます増加しています。 Filmなどの薄いSheetタイプの製品の場合、ホールのサイズが大きい場合、製品にダメージがあったりエンボス現象が起きる可能性があるため、微細ホールからなるVacuum Plateが必要なのです。
そこで21世紀はØ0.1からØ0.03までの微細ホールからなる高精度のVacuum Plateを製作し、様々な産業現場に供給しています。 半導体分野でPorus CeramicからなるVacuum Plateが多く使われていますが、これは粒子の大きさによって高平面度と均一な圧力管理に不安定さがあり、より21世紀のVacuum Plateの重要性が台頭しています。
規格の大きさによって差がありますが、0.001の平面度管理とØ0.03までの精密な吸入ホール管理で最高の品質と性能のVacuum Plateをお客様のNeedsに合わせて製作して提供しています。
上記のように高い品質と性能を誇る21世紀のVacuum Plateは2023年に次世代世界一流商品に選ばれ、世界市場をリードする優秀商品及び企業として大韓民国政府の公式ブランド認証を獲得し、超精密レーザー加工技術専門メーカーとしての地位を改めて強固にしました。
半導体プロセス用 真空プレート |
映画用 真空プレート |
フリップチップ 工程用 真空プレート |
MLCC 積層用 真空プレート |
ナノ秒IRレーザー | フェムト秒グリーンレーザー | |
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トレパニングドリルシステム–パワー : 50 W, パルスエネルギー : 100 uJ, 周波数 : 100Hz |
高度なヘリカルドリルシステム-パワー : 5 W, パルスエネルギー: 13 uJ, 周波数 : 100Hz |
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入力 | ||
出力 |
ナノ秒IRレーザー | トレパニング掘削システム–パワー : 50 W, パルスエネルギー : 100 uJ, 周波数 : 100Hz |
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入力 | |
出力 |
フェムト秒 グリーンレーザー |
高度なヘリカルドリルシステム-パワー : 5 W, パルスエネルギー : 13 uJ, 周波数 : 100Hz |
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入力 | |
出力 |
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真空プレート |
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名前 | ピーリングプレート |
材料 | SU420J2, SKD11 |
適用 | MLCC積層機で真空引きすることにより、0.8ミクロンの緑色のセラミックシートを移動します。 |
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Ra 0.018 ㎛ | Ra 0.010 ㎛ |
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5μm以下の平面図を持つ超精密平面研削加工が可能